次世代ディスプレイの主役になると期待される有機ELディスプレイ。当社の有機ELの特徴は、CGS技術を用いたアクティブマトリクス型ディスプレイを採用している点です。
この方式は画素数が多い表示に適していて、100万個近い画素の有機EL素子それぞれにTFTが配置されています。ひとつひとつの画素の電流を制御しながら表示できるので、長寿命化、省電力化が可能となります。
これらの技術は国内外において、多くの基本特許を取得しております。
● ● ● 当社の有機ELディスプレイ技術開発の歴史 ● ● ●
1995 |
共同開発のアクティブ型有機ELディスプレイをTDK株式会社より発表（世界初） |
2000 |
SID’00でアクティブ型有機ELディスプレイを発表 |
2000 |
CEATEC JAPANに出展、新聞発表 |
2000 |
EL2000にてトリプレットパネルを発表 |
2001 |
有機EL用TFT基板の生産・販売を行うための合弁会社、エルディス株式会社を3社共同で設立 |
2003 |
フラットパネルディスプレイ製造技術展（通称：ファインテック・ジャパン）の共同ブースにてデュアルエミッション有機ELディスプレイを展示 |
2003 |
世界最高密度の188ppi（26万色）を達成した4.3インチVGA有機ELパネルを開発、発表 |
2004 |
世界最高画素密度の423ppi（開口率75%）を達成した1.5インチQXGA有機ELパネルを開発、発表 |
 |
 |
| ■ Dual Emission(1画面2表示) 有機ELの概念図 |
■ Dual Emission 有機ELディスプレイ |
